 | |  电镀工作台 |  | | 电镀工作台
1）本设备是3槽电镀工作台，适用于4-5英寸工件的电镀工艺。
2）整机结构由 机台、操作台面、电镀槽体、水浴槽体、清洗槽、药液温度控制系统，排风、电气控制系统等组成。由PP板和PVC板焊接而成，美观、耐腐蚀
3）共3个槽体，依次为电镀水浴槽1#、2#、；清洗槽3#。
4）设备的左、右前方各配置PTFE材料的水枪、****各一把。
5）电镀电源：直流横流，0-2000mA可调，电压 10V，LED数字显示
6）磁力搅拌 0~1400r可调 功率40W
7）电镀加热温度：室温~ 70℃±1℃，连续可调
8）封闭照明，透明推拉门
9）可活动脚轮及可固定地脚
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 | | 腐蚀工作台 | | | 腐蚀工作台
1．本设备是3槽腐蚀工作台，适用于4英寸以下半导体硅片氧化前的清洗工艺。本设备采用RCA部分清洗工艺，采用国际标准生产加工，在超净厂房组装测试，有可靠的质量保障
2. 整机由机台、操作台面、清洗槽体、药液槽体、药液温度控制系统，排风、电气控制系统等组成。整机由PP板和PVC板焊接而成，美观、耐腐蚀。
3.腐蚀水域槽为不锈钢材料；腐蚀槽为石英材料(槽口部有法兰)，带盖；
4.加热方式：不锈钢内加热器，控温范围：室温－70℃，精度±1℃；
5.清洗槽为NPP材料，配有鹅颈水龙头。设有纯水管路、自来水管路及手动调节阀，下水自然放。
6.配置国际知名品牌喷淋枪一把、氮****一把；
7.排风通道:工 台后部、上部同时排风；
8.配有有机玻璃翻门，塑料推拉门，储物柜
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 | | 清洗工作台 | | | 清洗工作台
1. 透明推拉门结构，整机由机台、操作台面、清洗槽体、药液温度控制系统，排风、电气控制系统等组成。整机由PP板和PVC板焊接而成，美观、耐腐蚀
2. 清洗槽材料：进口NPP；配水龙头，下水自然排放
3. 工作台后侧焊接载物板一块。
4. 排风通道:工作台后部、上部、下部同时排风；
5. 上下水管全部硬连接；
6. 照明：20W日光灯两个。
7. 防腐型密封电炉一个，功率1500～2000W（功率可调）；
8. 储物柜(双开门)。
9. 设备的左、右前方各配置PTFE材料的水枪、****各一把
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 | | 硅片研磨后清洗设备工作台 | | | 研磨后清洗设备
1．本半导体研磨后清洗设备用于清洗去除研磨后硅片表面上的金刚砂，AL2O3，SIC，金属离子（NA+，SI+，K+，AL3+）等。
2．用于于Φ3″、Φ4″、Φ5″、Φ6″硅片
3．100枚/4花篮（PFA花篮）/一次的处理能力
4．各药液槽均有低液位保护和声光报警装置
5．超声波采用浸入式形式。
6．设备具有独立的电控柜
7．鼓泡溢流工位
8．清洗的时间、温度的控制均采用自动控制
9．循环泵的控制有自动/手动两种方式，自动条件下，清洗开始循环泵启动，清洗结束循环泵停止，循环泵出口配压力表。
10．所有的清洗槽的温度都设有状态显示，所有导线的线端均带导线编号，成件标明其代表符号。
11．主要控制元器件、管道、泵及必要的部件均为进口部件。
12．设备备有紧急开关和声光报警装置，设备外观美观、耐腐蚀。
13．本半导体设备具有短路、过载、超温、漏电等保护功能。
14．设备有良好的接地装置。
15．清洗槽的温度设定可控制键能被锁定
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 | | 显影工作台 | | | 显影工作台
1) 整机主要由机架、操作台面、排风、加热系统、机台照明、清洗槽体、药液槽、电器控制等系统组成
2) 槽体，其中包括： 显影液槽 ，快排冲水槽
3)显影台外部由瓷白PP焊接而成，美观耐腐蚀。
4）工作台有透明推拉门。
5）可移动的地脚轮及固定地脚组成，便于移动及固定。
6）照明：封闭式照明，2*20W 照明
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